半导体工艺与制造篇3 离子注入-离子注入监控

方法包括:四点探针法、热波法、二次离子质谱仪
四点探针法用于计算薄片电阻,需要测量四次
四点探针法的缺点:接触式测量,会造成损伤

热播法用于测量掺杂浓度
热播法的优点:非接触、非破坏式测量
热播法的缺点:对低剂量掺杂灵敏度很低
二次离子质谱仪得特点:破坏性检测,很贵,所以仅用于关键步骤

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